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　　所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內，真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜采用對應方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
　　多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
　　真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜工藝不但避免了傳統表面處理的不足，且各項技術指標不錯，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有很廣應用。催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪些改進？
　　1、多弧離子鍍膜不用電、節省了成本、成本為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大節省了成本。
　　2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經處理。